AI算力狂飙，EUV光刻技术挑战极限

EUV光刻技术对先进节点半导体制造至关重要，但其成本高、扩展受限。AI芯片需求增长推动了EUV应用，但全球仅有少数厂商掌握EUV量产能力。ASML作为唯一供应商面临订单积压，而掩模、光刻胶等关键技术仍存在挑战。行业正在通过AI过程控制和新材料研究优化EUV性能，但其广泛应用仍需商业模式创新。