俄罗斯首台光刻机：350纳米技术破冰，但落后国际30年差距

俄罗斯泽列诺格勒纳米技术中心与白俄罗斯公司联合开发出首台支持350纳米制程的光刻机，采用200毫米晶圆和固态激光器技术。该设备技术落后当前国际主流水平（5纳米）约30年，仅能用于汽车电子、电源管理等成熟领域或军事用途。量产能力存疑，且与俄罗斯本土芯片厂现有250-90纳米产线不匹配。俄罗斯计划2026年研发130纳米光刻机，但整体进展远落后于国家2025年实现90纳米工艺的目标。