EUV技术，前景光明

人工智能芯片需求激增，推动EUV光刻技术的发展和应用。尽管EUV光刻技术在先进节点芯片制造中至关重要，但其成本高昂、设备有限和技术挑战仍制约其广泛应用。新型光刻胶材料（如MOR和MTR）和高NA EUV系统的研发进展有望提升工艺稳定性和产量。同时，AI驱动的工艺控制正在优化EUV生产流程，降低成本并提高效率。然而，EUV扩展至二线晶圆厂仍面临诸多障碍。